CIOE光博會(huì)

作為具規(guī)模及影響力的光電產(chǎn)業(yè)綜合性展會(huì)，第23屆光電博覽會(huì)將于2021年9月16-18日在深圳國際會(huì)展中心舉辦，同期六展覆蓋信息通信、激光、紅外、紫外、精密光學(xué)、鏡頭及模組、傳感等版塊，面向光電及應(yīng)用領(lǐng)域展示前沿的光電創(chuàng)新技術(shù)及綜合解決方案，掌握行業(yè)最新動(dòng)向、洞察市場發(fā)展趨勢、助力企業(yè)與光電行業(yè)上下游進(jìn)行商貿(mào)洽談，達(dá)成商業(yè)合作。北京歐屹科技有限公司此次受邀參展。

在此次展會(huì)上，歐屹科技精心準(zhǔn)備，帶來行業(yè)內(nèi)性價(jià)比高的產(chǎn)品，主要展出：雙折射測量儀，應(yīng)力測量儀，白光+激光共聚焦顯微鏡，激光干涉內(nèi)徑測量儀，奈米級(jí)三維形貌儀、無掩膜光刻機(jī)等精密光學(xué)儀器。

相信通過此次展會(huì)的交流，客戶對(duì)歐屹科技會(huì)有一個(gè)新的認(rèn)識(shí)，對(duì)歐屹科技帶來的產(chǎn)品有更進(jìn)一步的了解，為后續(xù)的合作打下基礎(chǔ)。

展品介紹：

1， 應(yīng)力測量儀

來自日本PHL公司的PA和WPA系列雙折射應(yīng)力測量儀，業(yè)內(nèi)*超過70%。其中PA系列，廣泛應(yīng)用于玻璃、各種鏡頭、人工晶體、SIC、藍(lán)寶石，晶圓等透明或半透明內(nèi)部缺陷，雙折射變化，內(nèi)部應(yīng)力分布的測量。WPA系列，高達(dá)0-3500nm相位差范圍，幾乎適用于所有的透明半透明樣品的雙折射應(yīng)力測量，特別是 高分子材料，注塑成型制品，薄膜（位相膜）應(yīng)用廣泛，測量數(shù)據(jù)準(zhǔn)確，軟件功能強(qiáng)，使用方便快捷。

2， 白光+激光共聚焦顯微鏡

日本的Lasertec公司的激光+白光共聚焦顯微鏡是白光＆激光共聚焦融合，實(shí)現(xiàn)一般激光（白光）共聚焦顯微鏡無法實(shí)現(xiàn)的高性能與多功能，以雙共聚焦光學(xué)系為基礎(chǔ)，搭載微分干涉觀察，垂直白光干涉測定，相差干涉測定，反射分光膜厚測量等功能，通常多臺(tái)設(shè)備才能完成的測量，僅需我們的一臺(tái)設(shè)備就可實(shí)現(xiàn)。儀器特點(diǎn)：高放大倍數(shù)，高分辨率，高對(duì)比度，納米級(jí)異物或損傷的可視化，納米級(jí)透明膜的厚度測量，埃米級(jí)型狀測試，數(shù)毫米寬視野范圍納米型狀測量。

3， 激光干涉內(nèi)徑測量儀

Adamand Namiki開發(fā)了NMH-01通過微電機(jī)和光學(xué)成像探頭，利用光學(xué)干涉實(shí)現(xiàn)內(nèi)型面的測量，內(nèi)徑測量最小可達(dá)1.1mm，同時(shí)測量內(nèi)徑、真圓度、內(nèi)型表面粗糙度和形貌。

4， 無掩膜光刻機(jī)

無掩膜光刻機(jī)UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結(jié)合的縮小投影型無掩模曝光系統(tǒng)，其價(jià)格底于傳統(tǒng)系統(tǒng)（用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統(tǒng)） ，可以使用專門為此目的開發(fā)的軟件來創(chuàng)建想要的圖案。