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硬實力贏得現(xiàn)場關注 韞茂科技亮相慕尼黑上海光博會
2024年03月25日 14:00:16
來源：化工儀器網(wǎng) 作者：小王 點擊量：10915
2024年3月20日，慕尼黑上海光博會在上海新博覽中心順利舉行。本次展會展出面積超80000平方米，邀請了來自全球23個國家和地區(qū)的1160家展商共聚上海，吸引了國內外超9萬名觀眾參觀。展商及觀眾對本屆光博會都給予了高度評價。其中，廈門韞茂科技有限公司憑借自身過硬的實力，在本屆光博會脫穎而出，成為焦點之一。
【化工儀器網(wǎng) 展會報道】2024年3月20日，慕尼黑上海光博會在上海新博覽中心順利舉行。本次展會展出面積超80000平方米，邀請了來自全球23個國家和地區(qū)的1160家展商共聚上海，吸引了國內外超9萬名觀眾參觀。展商及觀眾對本屆光博會都給予了高度評價。其中，廈門韞茂科技有限公司憑借自身過硬的實力，在本屆光博會脫穎而出，成為焦點之一。
廈門韞茂科技有限公司展位
廈門韞茂科技有限公司(以下簡稱：韞茂科技)成立于2018年，是一家以納米級薄膜沉積工藝技術為核心的多領域全棧式薄膜沉積方案供應商，致力于為客戶提供全方位的技術解決方案以及先進的納米材料薄膜沉積裝備。
一直以來，韞茂科技都堅持在技術上尋求突破，專注于將前沿技術融入到產品生產中，從先進制造國產化痛點著手，以自主創(chuàng)新打開國內高端產品市場。目前已形成了以ALD原子層成膜系統(tǒng)、PVD物理氣相沉積系統(tǒng)、CVD化學氣相系統(tǒng)、Epitaxy外延爐等一系列薄膜沉積設備為核心的產品矩陣。
而在本次展會現(xiàn)場，韞茂科技重點展示了PBATCH批次型等離子體ALD，吸引了眾多觀眾前來咨詢與交流。
PBATCH批次型等離子體ALD
PBATCH實現(xiàn)低溫高質量PEALD工藝，可應用在高分子材料襯底等溫度敏感的襯底，制備氧化物、氮化物、金屬層等應用，最大可支持多片12寸樣品。而ALD沉積速率低，限制了生產效率，批次性ALD可大幅提高ALD產能，降低客戶使用成本。
產品亮點
•全自動、多片、大批量生產；
•批次等離子體ALD可為客戶帶來更多功能性薄膜選擇；
•可提高ALD產能，降低客戶使用成本，實現(xiàn)極致COO；
•可在光學薄膜沉積上實現(xiàn)設備國產化替代；
•工業(yè)標準安全互鎖、報警、EMO。
CBATCH 300S 新型多片批次型ALD
多片批次式ALD，能夠實現(xiàn)全自動、多片、連續(xù)化生產，有效提高產能，降低COO。并且多片批次式ALD能夠實現(xiàn)原子級別的精確控制，ALD沉積薄膜無針孔，質量高，可作為高K值介質層，金屬層，封裝層，電鍍種子層及其他功能層應用，廣泛應用于Mini/Micro LED、第三代半導體以及集成電路制造等領域。
產品亮點
•3D鍍膜實現(xiàn)原子級別精確控制
•高度精度、高重復性全自動上下料傳輸
•全自動、多片、連續(xù)化生產，有效提高產能，降低COO
•實現(xiàn)超高深寬比(1000:1)結構的鍍膜，ALD沉積薄膜無針孔，質量高
自成立以來，韞茂科技始終將實現(xiàn)客戶價值觀作為企業(yè)使命，以成本低、質量高、品種新、服務優(yōu)、交期準為專業(yè)基礎，以客戶為中心，主動了解客戶需求，努力為顧客提供全面針對性的解決方案。未來公司也將繼續(xù)將目光聚焦于填補部分國家高端裝備的空缺，為大眾提供更好用更實惠的產品。
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