GL4 R D研發(fā)型多功能納米壓印光刻設(shè)備是一種專門(mén)為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，功能強(qiáng)大的多功能研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備。通過(guò)簡(jiǎn)單的夾具更換，可以實(shí)現(xiàn)旋涂壓印膠高精度納米結(jié)構(gòu)壓印和點(diǎn)膠大矢高結(jié)構(gòu)自動(dòng)找平壓印模式之間的快速切換。

GL4 R D研發(fā)型多功能納米壓印光刻設(shè)備是一種專門(mén)為大學(xué)、科研院所和企業(yè)產(chǎn)品研發(fā)所設(shè)計(jì)，功能強(qiáng)大的多功能研發(fā)型納米壓印光刻設(shè)備。通過(guò)簡(jiǎn)單的夾具更換，可以實(shí)現(xiàn)旋涂壓印膠高精度納米結(jié)構(gòu)壓印和點(diǎn)膠大矢高結(jié)構(gòu)自動(dòng)找平壓印模式之間的快速切換?？蓪?shí)現(xiàn)直徑100mm以下基底面積上高精度（優(yōu)于10nm * ）、高深寬比（優(yōu)于10比1 * ）以及微透鏡陣列等微納結(jié)構(gòu)壓印，適合用作紫外納米壓印光刻工藝開(kāi)發(fā)，器件原型快速驗(yàn)證，納米壓印材料測(cè)試等研發(fā)。它沿用天仁微納量產(chǎn)型納米壓印設(shè)備的工藝與材料體系，在GL4 R&D上開(kāi)發(fā)的工藝可以無(wú)障礙轉(zhuǎn)移到量產(chǎn)設(shè)備上進(jìn)行生產(chǎn)。

GL4 R&D納米壓印設(shè)備適用于DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列、勻光片等應(yīng)用領(lǐng)域的研發(fā)。