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過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用

2025-07-21

產(chǎn)      地:
山東省青島市嶗山區(qū)株洲路188號(hào)
所在地區(qū):
山東青島市
有效期還剩 182舉報(bào)該信息

過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用是一款針對(duì)測(cè)量高濃度臭氧的氣體檢測(cè)模塊,用于檢測(cè)工業(yè)過程中的氣態(tài)臭氧濃度。基于紫外分光吸收原理設(shè)計(jì),利用臭氧氣體對(duì)特定紫外線吸收力的大小不同,來達(dá)到臭氧濃度檢測(cè)的目的,采用耐高壓沖擊的檢測(cè)腔室結(jié)構(gòu)及恒溫控制設(shè)計(jì),具有精準(zhǔn)性和可靠性。

應(yīng)用領(lǐng)域

本儀器主要應(yīng)用于測(cè)量半導(dǎo)體晶片制造、水處理和臭氧研究等過程中產(chǎn)生的氣態(tài)臭氧濃度,測(cè)量范圍可達(dá)到0-400mg/L。

產(chǎn)品特點(diǎn)
高穩(wěn)定性;

采用自動(dòng)控制系統(tǒng);

高純度接觸材料設(shè)計(jì);

溫度、壓力光源實(shí)時(shí)補(bǔ)償,在不同環(huán)境下數(shù)據(jù)穩(wěn)定準(zhǔn)確;過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用

氣路直線設(shè)計(jì),使得產(chǎn)品安裝更為方便;

密封圈采用全氟醚材質(zhì),更耐臭氧腐蝕。

過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用技術(shù)參數(shù)
 程:0-400mg/L
 1%F.S
復(fù)1%F.S

移:1%F.S/月
響應(yīng)時(shí)間2秒到95%

氣體流量:0.5-25L/min

壓力范圍:0-115psi
模擬輸出0-5V

串口通訊:RS485,波特率9600bps

電源輸入:15V

   316L不銹鋼1/4VCR接頭

預(yù)熱時(shí)間:15min

工作溫度:5~45℃

標(biāo)準(zhǔn)溫度:0℃
 寸:170*55*134.9mm
 量:1.1k



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