MLA150

先進(jìn)無(wú)掩膜激光直寫機(jī) / 光刻機(jī)

The Advanced Maskless Aligner

適合研發(fā)團(tuán)隊(duì)與中小批量生產(chǎn)的客戶

MLA150專屬為研發(fā)型以及中小批量生產(chǎn)的客戶而設(shè)計(jì)的激光直寫解決方案。

區(qū)別于過(guò)去傳統(tǒng)的工藝技術(shù)而開發(fā)的無(wú)掩膜激光直寫技術(shù)，將設(shè)計(jì)圖形直接曝光到涂覆有光刻膠的襯底材料上；

曝光后，如果需要修改圖形結(jié)構(gòu)，可以直接通過(guò)CAD軟件修改原始圖形，然后重新曝光即可，無(wú)需花費(fèi)重新制版的時(shí)間。

主要產(chǎn)業(yè)應(yīng)用有：生命科學(xué)、微流體、MEMS、微光學(xué)、傳感器、材料研究等有微納米結(jié)構(gòu)需求的科研領(lǐng)域。