勻膠旋涂儀通過高速旋轉(zhuǎn)基片,利用離心力將滴加在基片表面的膠液均勻鋪展,形成納米至微米級厚度的薄膜。
勻膠旋涂儀的構成:
1、旋轉(zhuǎn)平臺:放置基底的核心部件,通常采用真空吸附或機械夾持固定基底,材質(zhì)多為耐腐蝕金屬或陶瓷。
2、驅(qū)動系統(tǒng):由高精度電機驅(qū)動,可準確控制旋轉(zhuǎn)速度和加速度,確保轉(zhuǎn)速穩(wěn)定。
3、控制系統(tǒng):通過微處理器或 PLC 實現(xiàn)自動化控制,可預設旋轉(zhuǎn)程序,部分機型支持觸摸屏操作和數(shù)據(jù)存儲。
4、防護裝置:包括透明防護罩、廢液收集槽,部分機型配備通風系統(tǒng)。
5、滴膠輔助裝置:部分設備集成自動滴膠系統(tǒng),可精準控制滴膠量和滴膠位置,減少人為操作誤差。
關鍵參數(shù):
1、轉(zhuǎn)速范圍:通常為 100-10000 rpm,部分設備可達 20000 rpm 以上,轉(zhuǎn)速精度直接影響薄膜均勻性。
2、旋轉(zhuǎn)時間:可設置 0.1 秒至數(shù)分鐘,多段時間 - 轉(zhuǎn)速組合滿足復雜涂覆需求。
3、加速度/減速度:控制轉(zhuǎn)速變化的快慢,避免液體因劇烈加速而飛濺或分布不均。
4、基底尺寸:支持圓形或方形,不同機型適配范圍不同。
5、真空吸附力:確?;自诟咚傩D(zhuǎn)時不位移,吸附力需根據(jù)基底材質(zhì)和厚度調(diào)整。
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的,應在授權范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關權利。