Horiba直接注入式汽化器VC-1420

直接液體注入系統(tǒng)

在半導體測試工藝過程中控制氣體比例和濕度平衡相當困難，可以通過以下產(chǎn)品達到準確的氣體平衡和氣體濕度：氣體 MFC（SEC-Z512MGX、N112MGX、）、液體 MFM（LF-F20M-A）、汽化器（MV-2000）。

Horiba直接注入汽化器VC-1420能夠在無載氣的情況下快速汽化純水或其他液體源，組建更緊湊的汽化系統(tǒng)。

HORIBA 可為您提供由 Horiba直接注入式汽化器VC-1420和您需要的所有其他組件組成的定制汽化系統(tǒng)：

· 一種用于流量測量的液體質(zhì)量流量計

· 一種用于蒸氣流量測量的高溫質(zhì)量流量控制器

· 閥門、過濾器、加熱器等

特征

· 尺寸緊湊

· 可安裝在各種位置

· 暢銷的 TEOS 汽化系統(tǒng)

· 結合 SEF 或 LF，可實現(xiàn)數(shù)字控制

· 無需特殊鼓泡罐或汽化罐

· DeviceNetTM 型產(chǎn)品系列

· 符合 RoHS 標準

技術參數(shù)

外形尺寸圖

HORIBA 是高性能汽化系統(tǒng)的供應商之一。HORIBA 液體源汽化器貫穿整個半導體制程，可以安全有效地將液相化學品以氣相形態(tài)輸送至使用點。無論液態(tài)化學品是需要在真空下還是大氣壓下汽化，HORIBA 的汽化技術都能提供符合要求的汽化系統(tǒng)。包括：汽化器VC系列、汽化器MV系列、汽化器VE系列。

暢銷型號：VC-1420、MV-1000、MV-2000、VE-10、VE-30.

汽化器注入式方法

以下是將液體源氣化并輸送入反應腔的主要步驟。

1.測定液體源的流量，并通過反饋電路，控制閥門開度。

2.液體瞬間全部氣化。

3.氣體被釋放，且不會變回液相狀態(tài)。

氣化系統(tǒng)采用注入式的方法繼而按以上1,2,3步進行傳輸。

汽化器VC-1420采用內(nèi)置質(zhì)量流量計測量液體流量，因此不再需要其他載氣。

汽化器VC與其他設備組合使用

汽化器MI-1000、汽化器MV-2000需要配置液體流量計LF-A、載氣流量控制器SEC，來實現(xiàn)液體源汽化。

金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)

先進的高精度過程控制儀器用于高產(chǎn)量 MOCVD 應用

電力電子領域的許多行業(yè)使用金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)作為激光二極管、LED和半導體制造的標準工藝。MOCVD工藝是一種成熟的可控合成方法，它使用了多種MO源，如三甲基銦(TMI)和二乙基鋅(DEZ)，需要一種穩(wěn)健的傳遞方法，以確保沉積過程的重復性和高收率。MOCVD系統(tǒng)利用起泡器汽化，從而控制MO源濃度、生長時間和生長速率。部分MO源用載氣流帶出源瓶，并從起泡器流向腔室。在這個過程中捕獲的MO源的濃度必須是已知的，而且最重要的是必須具有重復性，以提供最大的工藝效率。實現(xiàn)這一目標需要精確、快速和理想的過程變量的閉環(huán)控制，包括氣體流量、溫度和壓力。