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Series 2000旋轉鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設備PX 3299
TRP450沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 4442
Batch Type部件鍍膜設備PX 2000
TF-1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2724
CVD化學氣相沉積裝置PX 2944
CYRANNUS微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3462
金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備PX 3074
C2GR16-立式氣相沉積爐PX 0
CVD化學氣相沉積設備PX 3656
FL-800N低溫化學氣相沉積冷卻系統(tǒng)-試驗用冷水機PX 7014
FPSEM-ICP200D等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3622
C2GR16-氣相沉積爐PX 2810
CC-200日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設備PX 5557
GS-30-700廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3756
ICP-500D薄膜沉積CVDPX 3290
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3620
ZT-60-15立式化學氣相沉積爐PX 4419
等離子體化學氣相沉積設備PX 2583
轉移多壁碳納米管垂直陣列(化學氣相沉積法)PX 3737
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3684
TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3883
Cluster system等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)PX 3299
Series 3000 CR進口parylene派瑞林鍍膜設備PX 3299
Series 3000 LV 800/1000派瑞林parylene真空鍍膜設備PX 3299
Series 3000 LV 600/700派瑞林parylene鍍膜設備PX 3299
Serie 3000 StandardParylene派瑞林真空鍍膜機PX 3299
Labcoater Series 100Parylene派瑞林鍍膜設備PX 3299
Labcoater Series 300Parylenen派瑞林鍍膜機PX 3299
Parylene派瑞林真空鍍膜設備PX 3299
PVD500沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 4442
DZS500沈陽科儀高真空電子東及熱阻薄膜沉積系統(tǒng)PX 4442
PLD450沈陽科儀高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 4442
EB700沈陽科儀高真空電子東蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 4442
Automotive Lamp Reflector薄膜沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2000
TurboDisc EPIK 868金屬有機化學氣相沉積MOCVDPX 2000
Propel 300mm GaN金屬化學氣相沉積MOCVDPX 2000
SENTECH SIPAR ICPICP沉積系統(tǒng)PX 2000
SENTECH Depolab 200開蓋等離子體沉積系統(tǒng)PECVDPX 2000
PlasmaPro 1000等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 2000
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等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)
旋轉鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設備
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派瑞林parylene真空鍍膜設備
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Parylene派瑞林真空鍍膜機
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Parylene派瑞林鍍膜設備
日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設備
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