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自動顯影機(jī)PX 3983
VP-Q10微波等離子去膠機(jī)PX 4652
mr-NIL200-100nm納米壓印光刻膠 mr-NIL200 系列PX 3649
EZ4-S勻膠旋涂儀_供應(yīng)杭州、上海、廣州等地-江蘇雷博PX 2502
SC-H-I-II-III北京賽德凱斯烘膠機(jī)/烤膠機(jī)PX 3708
PLUTO-M型等離子表面處理機(jī)/清洗機(jī)PX 5005
超大型勻膠機(jī)PX 3442
customized去膠清洗機(jī)PX 2000
L-858DSEKONIC/日本世光原裝全新攝影曝光機(jī)PX 3289
JW-A88寸程控觸屏臺式勻膠機(jī)旋涂儀PX 4104
LSA(DIN)PC德國Diamond光刻機(jī)跳線PX 5886
VTC-50A旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)PX 4700
ED-1200MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備PX 5408
定制納米壓印模具PX 2583
AS-11SUGIYAMA杉山電機(jī)振動傳感器PX 3969
全柜式涂膠顯影機(jī)PX 1950
EVG770 NT分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)PX 7147
KWD臺式勻膠機(jī)PX 2550
納米壓印系統(tǒng)PX 3126
H17929GB/T 4985潤滑脂和石油脂錐入度測定儀PX 5334
SC1CIF勻膠機(jī)PX 4561
LSC4000 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備PX 3299
EZ6程控勻膠機(jī)_杭州推薦-江蘇雷博PX 1400
MicroWriter ML3直寫光刻機(jī)PX 1615
HAKW-4A勻膠機(jī)PX 4084
ABN-MLM-001無掩膜光刻機(jī)PX 7914
涂膠顯影PX 2583
HMS-901HS晶圓烤膠機(jī)(光刻)PX 2728
HC300SE安賽斯12寸可編程勻膠機(jī)PX 2430
型號:ZRX-16298土壤溫度記錄儀PX 4407
MHY-26228恒溫勻膠機(jī)PX 2952
UV-Writer無掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)PX 3074
SMAP-ⅡF東洋研磨材TOYO 打磨機(jī)光澤出專用機(jī)PX 5749
CUL-PS350德國SUMET實(shí)驗(yàn)室雙面施膠機(jī)PX 4247
plasma等離子去膠機(jī) 清洗活化改性設(shè)備PX 1954
KT-S2DQX小型等離子去膠機(jī)清洗機(jī)PX 4418
POLOS® BEAM XL Mk2無掩模光刻機(jī)PX 3448
SYSC-300高精度程控勻膠機(jī) 旋.PX 3455
HAD-T0109潤滑脂抗水淋性能測試儀PX 3208
PALET DDB-701日本無掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器PX 3865
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
自動顯影機(jī)
納米壓印光刻膠 mr-NIL200 系列
納米壓印光刻膠mr-NIL210系列
德國Diamond光刻機(jī)跳線
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備
小型等離子清洗機(jī)
臺式納米壓印機(jī)
微波等離子去膠機(jī)
自動顯影勻膠機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
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